產(chǎn)品機型：37片機

GAN MOCVD機 外延片爐    BDS反應腔體

通過中心輻射流動與垂直噴淋流動相結合吸收行星反應腔體流層的優(yōu)點，而無需行星反應腔體所需的復雜運動

優(yōu)勢：避免復雜運動，設計上可擴展

GAN MOCVD機 外延片爐    氣流模式

準確實現(xiàn)反應氣體的瞬時切換在保持腔體流場不變的情況下，可實現(xiàn)反應氣源從連續(xù)到脈沖注入的切換

優(yōu)勢：氣流的流動方式、反應氣體濃度、組分及參雜等級一步柔性可控；滿足用戶不同膜層的界面的要求，納米級薄膜厚度精確可控

GAN MOCVD機 外延片爐   加熱爐體

采用多區(qū)電阻片紅外輻射加熱區(qū)域可以獨立控制，加熱片形狀經(jīng)過獨特設計，

優(yōu)勢：實現(xiàn)大面積溫度可控，獲得更廣范圍的加熱溫區(qū)

GAN MOCVD機 外延片爐   控制系統(tǒng)

采用網(wǎng)絡架構，實現(xiàn)傳感器與執(zhí)行器實時控制：根據(jù)不同外延工藝對實時性的敏感性進行針對性設計；提供工藝工程師熟悉的控制界面，指示清晰，操作簡便

優(yōu)勢：保證生產(chǎn)的重復性與穩(wěn)定性，方便用戶熟悉使用