一、紅光良率不比藍綠，弱化結構更是難題
Micro LED 技術談了好多年，眾所周知這是一門需要顛覆傳統(tǒng)制程、牽涉產業(yè)領域甚廣的破壞式創(chuàng)新技術，各個技術環(huán)節(jié)對領域專家而言都有不易突破的瓶頸。去年臺工研院與三廠合作開發(fā)的被動矩陣式驅動超小間距 Micro LED 顯示模塊，成功將 Micro LED 陣列芯片直接轉移到 PCB 基板，只是RGB 全彩獨缺紅光。經過一番努力，今年總算是讓紅光「亮」了相。
有別于先前 6 cm x 6 cm 的 Micro LED 顯示模塊，間距（Pitch）小于 800 μm、分辨率 80 x 80 pixel，新版模塊尺寸為 6 cm x 10 cm，間距約在 700 μm 以下、分辨率 96 x 160 pixel，LED 芯片尺寸則同樣在 100 μm內。從前端制程到后端轉移，臺工研院電光所智能應用微系統(tǒng)組副組長方彥翔博士提到兩大技術難題，一是紅光芯片利用率與良率不足，二是「弱化結構」。
▲ 2018 年所展出的超小間距 Micro LED 顯示模塊獨缺紅光，間距小于 800 μm、分辨率 80 x 80 pixel
▲ 2019 年新版 Micro LED 顯示模塊成功達成 RGB，間距約 700 μm以下、分辨率 96 x 160 pixel
「以芯片利用率和良率來看，紅光還是問題，」方彥翔以 4 英寸 LED 晶圓為例指出，晶圓扣除 2 mm 外徑后，可用區(qū)域的良率在單一標準值下或許可達 99％，也就是單看波長（Dominant Wavelength，Wd）、驅動電壓（Forward Voltage，Vf）或反向漏電（流）（Reverse Leakage (Current)，Ir）；但若三項數值標準都要兼?zhèn)�，整體良率很可能不到 60％，尤其紅光受限于材料與特性，或許連 50％ 良率都未必能達到。
光看可用區(qū)域的良率并不夠，方彥翔表示，Micro LED 制程下需要針對轉移的面積去定義良率。簡單來說，假設巨量轉移模塊的轉移面積是 6 cm x 3 cm，就表示在該矩形區(qū)域（block）里的 Micro LED 陣列芯片都必須符合前述三項良率標準，不能有壞點才能進行轉移，也就是說整片晶圓里可能只有某個特定區(qū)塊符合所有標準，良率不夠穩(wěn)定導致能轉移的區(qū)域少、整片利用率也大幅下降。以目前產業(yè)最頂尖的技術來說，晶圓芯片要做到超高均勻度都還有很大努力空間。
▲ 紅光受限于材料與特性，良率比藍光、綠光相對更低
不僅 Micro LED 紅光良率有待改善，具有弱化結構的 Micro LED 更是難求。
弱化結構是巨量轉移成功與否的一大關鍵。方彥翔說明，Micro LED 芯片在制程階段得先跟硅或玻璃等材質的暫時基板接合，再透過雷射剝離（laser lift-off）去除藍寶石基板，接著以覆晶形式將原本的 LED 結構翻轉、正面朝下，并使 P 型與 N 型電極制作于同一側，對于微縮到微米等級的 Micro LED 來說又更具難度。
為了讓 Micro LED 在巨量轉移的吸取過程中，能夠順利脫離暫時基板又不至破片，因此得在 LED 下方制作中空型的弱化結構，也就是以小于 1 μm 的微米級柱子支撐。當轉移模塊向上吸取 LED 時，只要斷開柱子便能將 Micro LED 脫離暫時基板，再轉移下壓至 TFT 或 PCB 板上，但這一步驟也考驗 LED 本身夠不夠強固、承受壓力時是否仍能保持完好，而紅光比起藍光和綠光相對更脆弱易破，加上 PCB 板粗糙度（roughness）較大、上下高低差大于 200 μm，稍微施壓不當就可能降低紅光轉移成功率。
至于玻璃基板則因為粗糙度沒有 PCB 板來得大，Micro LED 轉移難度也相對較低。去年臺工研院便展出過一款 6 cm x 6 cm、間距約 750 μm、分辨率 80 x 80 pixel 的 Micro LED 透明顯示模塊，所采用的就是超薄玻璃基板，技術上成功實現了 RGB 三色；而今年所制作的新版 Micro LED 透明顯示模塊，尺寸為 4.8 cm x 4.8 cm，間距約 375 μm、分辨率 120 x 120 pixel，明顯比前一款的顯示效果更為細致。
▲ 2018 年版 Micro LED 透明顯示模塊，間距約 750 μm、分辨率 80 x 80 pixel
▲ 2019 年版 Micro LED 透明顯示模塊，間距約 375 μm、分辨率 120 x 120 pixel
二、聚焦三大應用：電競屏幕、AR、透明顯示器
Micro LED 具備高亮度、高效率低功耗、超高分辨率與色彩飽和度、使用壽命較長等特性，在電競屏幕（Gaming Monitor）、擴增實境（AR）、透明顯示器等應用領域，要比 OLED、LCD 更能發(fā)揮優(yōu)勢，而這三大應用也是臺工研院最為看好也正積極發(fā)展的方向。
以電競屏幕應用來看，方彥翔提到目前市場上雖然已有次毫米發(fā)光二極管（Mini LED）技術切入，但始終是做為顯示器背光，Micro LED 則可直接做為 pixel 顯示不需背光源。相較于 Mini LED 或同樣為自發(fā)光顯示技術的 OLED，Micro LED 對比度更高更純凈、顯色表現也更佳，在最關鍵的刷新率表現上也優(yōu)于 OLED，而且無烙印或衰退問題，未來在高端消費市場的發(fā)展?jié)摿ο喈斂善凇?/p>
▲ 臺工研院 Mini LED 顯示模塊采用 PCB 基板，模塊尺寸 6 cm x 6 cm、間距小于 800 μm、分辨率 80 x 80 pixel
提到 Micro LED 應用于 AR 的發(fā)展機會，方彥翔已不只一次表達過正面看法。他認為 Micro LED 有機會在 AR 領域發(fā)展為顯示光源主流技術，但就技術而言還有很多難題有待克服，除了 Micro LED RGB 三色良率和效率問題需要重新調整外，若以單色 Micro LED 結合量子點（QD）色轉換材料的方式，也還有其他問題存在。
而且，AR 成像目前遇到的問題為系統(tǒng)光波導（Optical Waveguide）吸收率極高，因此若要在系統(tǒng)要求的低功耗前提下，Micro LED 所需要的亮度將高達 100 萬 nits，別說 Micro LED 現在還很難做到，連技術成熟的 OLED 和 LCD 都無法達到，更何況 AR 畫素密度約 2,000 ppi 以上，間距在 12.8 μm 左右，單一子畫素（Sub-pixel）必須微縮到 4 μm 以下，Micro LED 若以傳統(tǒng)制程進行制作，效率將大幅下降，在一定功耗要求下，光要達到 10 萬 nits 就已經非常困難。
「所以 LED 小于 10 μm 以后，亮度就是另一個世界，」方彥翔說，「要提升 LED 在 AR 上的效率，就必須從半導體的結構和制程去改變，要有突破才有辦法達到」。盡管 AR 應用可能還需要五年才有機會實現，但他認為這確實是臺灣地區(qū)可以發(fā)展的 Micro LED 利基市場。
至于臺工研院所開發(fā)的透明顯示器采被動式無 TFT，主要以 3 到 4 英寸模塊拼接形式，聚焦車載和被動式應用。提到透明顯示器車載應用，方彥翔指出，OLED 透明度雖然可達 60％ 到 70％，但分辨率難做高；Micro LED 透明度可達 70％ 以上，顯示也相對更清晰。目前臺工研院正與廠商進行產品試做，也會持續(xù)發(fā)展有關應用。
方彥翔直言，Micro LED 就技術開發(fā)來說還需要一段時間，若朝 OLED 和 LCD 現有市場發(fā)展替代應用已經太晚，也不一定會有競爭優(yōu)勢，加上良率有限、成本難降，要跟技術成熟的 LCD 和 OLED 競爭并不容易。但他相信，OLED 或 LCD 達不到的技術就是 Micro LED 的機會，尤其電競屏幕、AR 和透明顯示器等高技術門檻的利基應用，或許可為臺灣地區(qū)發(fā)展 Micro LED 的路上亮起希望。
